FPGA线上课程平台｜最全栈的FPGA学习平台｜FPGA工程师认证培训
登录
首页-所有问题-其他-正文

模拟IC版图绘制中，关于‘匹配性设计’的规则，除了共质心、 dummy器件等，在深亚微米工艺下还需要特别注意哪些与应力、刻蚀梯度相关的匹配技巧？

电子爱好者小张电子爱好者小张
其他
1个月前
0
0
63
画版图时知道匹配器件要放一起、方向一致、用dummy。但听说在先进工艺下，机械应力、刻蚀的不均匀性对匹配性影响巨大。有哪些具体的版图布局技巧（比如深N阱的利用、屏蔽线的添加）可以应对这些非理想效应？
电子爱好者小张

电子爱好者小张

这家伙真懒，几个字都不愿写！
198462.41K
分享：
2026年春招，如果同时拿到‘芯片设计服务公司（如芯原、灿芯）’和‘产品芯片公司（如兆易、圣邦）’的Offer，对于应届生长期成长，该如何选择？上一篇
想用低成本的FPGA（如Cyclone IV）实现一个‘简易示波器’作为电子竞赛项目，在实现高速ADC数据采集、触发和显示时，如何克服低速FPGA的资源与速度瓶颈？下一篇
FPGA线上课程平台｜最全栈的FPGA学习平台｜FPGA工程师认证培训
还没有人回答，第一个参与下？
我要回答
回答被采纳奖励100个积分
FPGA线上课程平台｜最全栈的FPGA学习平台｜FPGA工程师认证培训
请先登录