2026年秋招,应聘‘芯片模拟版图工程师’时,除了画图技能,面试官会如何考察对先进工艺(如5nm)下特有物理效应(如WPE、LOD、OSE)的理解和应对经验?
我是一名微电子专业应届生,想应聘模拟版图工程师。在学校学过基础版图知识,也画过一些简单的电路。但听说现在大厂都用很先进的工艺,面试会问很多工艺相关的问题。想请教一下,对于5nm、7nm这类先进工艺,面试官除了看画图工具熟练度,通常会重点考察哪些特有的物理效应(比如阱邻近效应WPE、长度氧化扩散LOD、氧化层应力效应OSE等)?以及在实际版图设计中如何规避或补偿这些效应?没有流片经验的学生该如何准备这部分内容?我要回答answer.notCanPublish回答被采纳奖励100个积分